반도체 핵심기술 중국에 유출···SK하이닉스 협력사 임원 유죄 확정

SK하이닉스의 반도체 핵심 기술과 삼성전자 자회사 세메스의 세정장비 도면 등을 중국 기업에 유출한 혐의로 기소된 협력사 임직원들에 대해 대법원이 유죄를 확정했다.

대법원 1부(주심 신숙희 대법관)는 12일 산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의로 기소된 협력사 부사장 A씨 및 소속 임직원 5명에 대한 상고심에서 검사와 피고인 측의 상고를 모두 기각하고 원심 판결을 확정했다.

이들은 SK하이닉스와 협력하며 확보한 세정공정 양산 레시피, 반도체 세정장비 사양, HKMG 공정 기술 등 핵심기술을 2018년경부터 중국 경쟁업체에 넘긴 혐의를 받는다. HKMG(High-k Metal Gate) 공정은 D램 반도체의 속도와 전력 효율을 높이는 차세대 기술로, 업계에선 기술 유출 시 수년간 쌓아온 기술격차가 단기간에 무너질 수 있다는 우려가 제기돼 왔다.

이와 별도로 삼성전자 자회사 세메스의 전직 직원을 통해 초임계 세정장비 도면과 관련 기술정보를 빼낸 뒤, 이를 자사 제품 개발에 활용하려 한 시도도 함께 기소 대상이 됐다.

1·2심은 이같은 행위 중 일부에 대해 산업기술 국외누설 및 영업비밀 침해를 인정해, 회사 측에는 벌금형, 임직원들에게는 실형 또는 집행유예를 각각 선고했다. 당시 재판부는 “피해 기업뿐 아니라 국내 반도체 산업 전체에 심각한 영향을 줄 수 있는 행위”라며 엄중한 책임을 물었다. 대법원도 이날 원심 판결을 그대로 확정했다.

김선영 기자 earthgirl@sedaily.com
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