대만서 TSMC 2나노 공정 기술 유출 전현직 직원 3명 구속

대만 내 도쿄일렉트론(TEL) [연합뉴스 자료사진. 재판매 및 DB 금지]

(타이베이=연합뉴스) 김철문 통신원 = 세계 최대 반도체 파운드리(위탁생산) 업체인 대만 TSMC의 최첨단 공정인 2㎚(나노미터·10억분의 1m) 기술 유출 사건이 발생해 3명이 구속됐다고 자유시보와 연합보 등 대만언론이 6일 보도했다.

대만 고등검찰서 지적재산권분서는 지난달 TSMC 전현직 직원 9명에 대한 수사에 나섰다면서 전날 이같이 밝혔다.

지적재산권분서는 전현직 TSMC 엔지니어 거주지와 북부 신주과학단지 내 도쿄일렉트론(TEL)에 대한 압수 수색을 진행했다.

이어 소환 조사, 압수 휴대전화 포렌식 분석, 클라우드 데이터 분석, 계좌 추적 등을 통해 천모 씨, 우모 씨, 거모 씨 등 3명을 국가안전법 위반 혐의로 구속했다.

검찰 관계자는 TSMC 통합시스템 부문에서 퇴직 후 TEL 엔지니어로 이직한 천씨가 TSMC에서 일하던 우씨 등과 2023년 말부터 접촉했다고 설명했다.

그러면서 우씨와 거씨는 회사 모니터에서 휴대전화로 촬영한 2나노 공정 기술 도면을 천씨에게 제공했으며, 유출된 도면이 약 1천여장에 달한다고 전했다.

이번 사건에는 2022년 5월 국가안전법이 개정된 후 반도체 기술과 관련한 '국가핵심관건기술 영업비밀의 역외사용죄'가 처음 적용됐다.

해당 법률이 적용되면 최고 징역 12년과 최대 1억 대만달러(약 46억원) 벌금에 처할 수 있다.

TSMC는 영업비밀 보호와 회사 이익에 손해를 끼치는 행위에 대해 절대 용인할 수 없다며 강경 대응 방침을 밝혔다.

이어 조사에 최대한 협조하고 최근 이직을 준비하는 직원에 대한 전면 조사에 나설 것이라고 강조했다.

jinbi100@yna.co.kr

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